详细介绍
1 | 工作条件 | 1、输入电压:单相交流220V±10% 50Hz 2、工作环境:环境温度0℃~+40℃ 相对湿度<85%(25℃) |
2 | 实验目的 | 氧化沟是一种改良的活性污泥法,其曝气池呈封闭的沟渠型,污水和活性污泥混合液在其中循环流动,因此被称为氧化沟。本装置是氧化沟的教学实验设备。通过本实验希望达到以下目的: 1、掌握氧化沟的内部构造; 2、了解氧化沟的水力特性,水力流动情况及工艺特点。 |
4 | 技术指标 | 1、设备有微机接口,整个设备的操作运行可由计算机进行自动控制,配有自动控制软件,可自行设置控制方式。2、设备有两种自动运行方式,分别为电脑控制运行和可编程序控制运行,可自行切换。 3、环境温度:5℃~40℃; 4、处理流量:5~25L/h; 5、氧化沟体积:约0.1m3; 6、污泥停留时间为:小于15天; 7、双沟式氧化沟(计算机控制)本体由氧化沟、配水池、机械曝气系统、导流板等组成; |
5 | 产品规格与附件 | 控制软件1套、自动数据处理采集卡1张、计算机通讯接口1个、数据连接线1套、有机玻璃氧化沟1个、污水配水箱1个、进水泵1台、进水流量计1个、水位调节器1套、机械曝气装置2套、曝气深度调节装置2套、调速电机2套(转速0~1500转/分钟,无级调速)、可控硅调速器2台、导流版2套、可编程序控制器1套、金属仪表控制箱1台、漏电保护开关1套、电源电压表1个、按钮开关4个、电源线、插头等1套、不锈钢台架1只、连接管道及阀门若干。 |
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